特許
J-GLOBAL ID：200903075610689260
荷電ビーム補正方法及びマーク検出方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-074836
公開番号（公開出願番号）：特開平6-124883
出願日： 1993年03月31日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：
【要約】【目的】 矩形以外にキャラクタビームのような複雑な形状のビームを発生可能な荷電ビーム露光装置において、ビームの倍率,回転,位置ずれ及び非点の校正等を高速かつ高精度に行うことができる荷電ビーム補正方法を提供すること。【構成】 所定の開孔形状を有するアパーチャマスクに荷電ビームを照射することにより開孔形状のビームを生成し、これを偏向して試料上の所望位置に描画する荷電ビーム露光装置であって、ビームを微小マーク上で少なくとも1回走査することによりビームの2次元強度分布を測定し、その強度分布と基準パターンとの相関係数を算出し、その算出結果に基づいて電子光学系の各種パラメータを調整し補正する方法において、基準パターンとしてビームの設計データ100とノイズフィルタ101をコンボリューションしたパターン102を予め算出しておき、調整時にそのパターン102を使用することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
所定の開孔形状を有するアパーチャマスクに荷電ビームを照射することにより前記開孔形状のビームを生成し、これを偏向して試料上の所望位置に描画する荷電ビーム露光装置であって、前記ビームを微小マーク上で少なくとも1回以上走査することにより前記ビームの2次元強度分布を測定し、その強度分布と基準パターンとの相関係数を算出し、その算出結果に基づいて電子光学系の各種パラメータを調整し補正する方法において、前記基準パターンとして前記ビームの設計データとノイズフィルタ関数をコンボリューションしたパターンを予め算出しておき、調整時にそのパターンを使用することを特徴とする荷電ビーム補正方法。
FI (3件)：
H01L 21/30 341 N
, H01L 21/30 341 R
, H01L 21/30 341 V
