特許

J-GLOBAL ID：200903075633573250

パターン形成装置の製造方法

発明者： 涌井 昌輝 ,  山中 勲 ,  江澤 孝
出願人/特許権者： 双葉電子工業株式会社
代理人 (1件)： 大塚 秀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-037941
公開番号（公開出願番号）：特開2000-235265
出願日： 1999年02月17日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：

【要約】【課題】 高精度で膜厚の厚い印刷が可能なパターン形成装置を廉価且つ短時間で製造可能にすること。【解決手段】 枠体101に張架された金属メッシュ部102にフォトレジスト層103を被着し、フォトレジスト層103にCO2レーザ104からのレーザ光を印刷パターンに対応するパターンで照射して除去し、フォトレジスト層103に印刷パターンを形成する。

請求項（抜粋）：

枠体に張架された金属メッシュ部に有機材料の層を被着する工程と、前記有機材料の層を印刷パターンに応じて、レーザ光源からのレーザ光で照射して除去する工程とを備えて成ることを特徴とするパターン形成装置の製造方法。

IPC (3件)：

G03F 7/12 ,  B23K 26/00 ,  G03F 7/36

FI (3件)：

G03F 7/12 ,  B23K 26/00 C ,  G03F 7/36

Fターム (12件)：

2H096AA19 ,  2H096AA30 ,  2H096BA20 ,  2H096CA20 ,  2H096EA04 ,  2H096GA45 ,  4E068AA04 ,  4E068AC00 ,  4E068CA01 ,  4E068DA09 ,  4E068DA14 ,  4E068DB01