特許

J-GLOBAL ID：200903075637032793

露光装置

発明者： 千葉 洋
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-396078
公開番号（公開出願番号）：特開2002-198292
出願日： 2000年12月26日
公開日（公表日）： 2002年07月12日
要約：

【要約】【課題】 マスクと基板とを高精度に位置決めして微細加工に寄与する。【解決手段】 所定の波長を有する光で照明されたマスクRのパターンを基板上に露光する。光により露光に関する処理を行う処理系IOP2と、光を処理系IOP2に送光する送光系IOP1とを備える。処理系IOP2と送光系IOP1とを相対変位可能に設けるとともに、可撓性を有し光を伝送する光ファイバFで接続する。

請求項（抜粋）：

所定の波長を有する光で照明されたマスクのパターンを基板上に露光する露光装置において、前記光により前記露光に関する処理を行う処理系と、前記光を前記処理系に送光する送光系とを備え、前記処理系と前記送光系とは、相対変位可能に設けられるとともに、可撓性を有し前記光を伝送する光ファイバで接続されることを特徴とする露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00

FI (7件)：

G01B 11/00 C ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/22 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 G ,  H01L 21/30 503 F ,  H01L 21/30 525 J

Fターム (57件)：

2F065AA03 ,  2F065BB27 ,  2F065CC20 ,  2F065DD02 ,  2F065DD14 ,  2F065FF04 ,  2F065FF48 ,  2F065FF55 ,  2F065FF67 ,  2F065GG04 ,  2F065GG08 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL08 ,  2F065LL09 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065LL13 ,  2F065LL24 ,  2F065LL30 ,  2F065LL46 ,  2F065MM03 ,  2F065QQ25 ,  2F065TT02 ,  2H097AB09 ,  2H097CA13 ,  2H097LA10 ,  5F046AA23 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB13 ,  5F046CB20 ,  5F046CB23 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16 ,  5F046CC18 ,  5F046DA02 ,  5F046DA09 ,  5F046DB01 ,  5F046DB05 ,  5F046DC02 ,  5F046DC14 ,  5F046ED01 ,  5F046ED03 ,  5F046FA02 ,  5F046FA05 ,  5F046FA10 ,  5F046FA16 ,  5F046FB06 ,  5F046FC04 ,  5F046FC05