特許
J-GLOBAL ID：200903075644868562
エッジクリーン方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-003725
公開番号（公開出願番号）：特開平8-195370
出願日： 1995年01月13日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：
【要約】【目的】 ウエハ外周部の塗布膜を確実に垂直な端部形状で除去し、発塵の防止、歩留りの向上を図る。【構成】 ウエハWをウエハステージ1に吸着して回転させるとともに、溶剤を射出し、ウエハ外周部の塗布膜を一定幅だけ除去するエッジクリーン方法において、ウエハWの回転速度と加速度とを段階的に変化させる。具体的には、ウエハWを高速回転させるとともに溶剤の射出を十分な時間で行う第1ステップと、第1ステップの回転より低速でウエハWを回転させるとともに第1ステップより短時間の溶剤射出を行う第2ステップと、溶剤の射出を行わず第1ステップの回転より高速でウエハWを回転させる第3ステップとを含むことが好ましい。
請求項（抜粋）：
ウエハをウエハステージに吸着して回転させるとともに、溶剤を射出し、ウエハ外周部の塗布膜を一定幅だけ除去するエッジクリーン方法において、前記ウエハの回転速度と加速度とを段階的に変化させることを特徴とするエッジクリーン方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/68
