特許
J-GLOBAL ID:200903075652900050

電子線描画装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 明夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-019870
公開番号(公開出願番号):特開平5-217869
出願日: 1992年02月05日
公開日(公表日): 1993年08月27日
要約:
【要約】【目的】 描画パタ-ンの輪郭精度、とくに狭い間隔をおいた二つの描画パタ-ンの隣接部の輪郭精度を向上した電子線描画装置を提供する。【構成】 描画パタ-ンを分解して得られる基本図形に輪郭部を設け、基本図形の隣接辺の短い方の輪郭部を省略し、電子線照射により各輪郭部に与えるエネルギ付与量を中央部より高めるようにする。また、上記輪郭部情報を基本図形の形状、位置情報等と共にファイル化する。また、電子線の加速電圧により上記エネルギ付与量を制御する。
請求項(抜粋):
試料上に描画する図形パタ-ンを矩形、台形、平行四辺形等の基本図形の集合に分解する手段と、上記各基本図形の周辺に輪郭部を設ける手段と、上記試料の輪郭部に照射するの電子線のエネルギ堆積量を上記輪郭部に囲まれた中央部に照射する電子線のエネルギ堆積量より高める手段とを備えた電子線描画装置において、上記基本図形が隣接する場合に隣接する基本図形のそれぞれの辺の長さを比較して短い方の辺の上記輪郭部の形成を省略する手段を備えたことを特徴とする電子線描画装置。

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