特許

J-GLOBAL ID：200903075656427391

透明導電膜とその製造方法およびスパッタリングターゲット

発明者： 光井 彰 ,  佐藤 一夫 ,  宮崎 正美 ,  海老沢 純一 ,  林 泰夫 ,  日下田 雅男 ,  相川 勝明 ,  林 篤
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-208158
公開番号（公開出願番号）：特開平8-111123
出願日： 1995年08月15日
公開日（公表日）： 1996年04月30日
要約：

【要約】【課題】真空中に残留する水分を制御することなく、成膜時における膜特性が安定であり、優れた耐湿性を有する酸化亜鉛系の透明導電膜を製造可能とする。【解決手段】ガリウムとケイ素とを含有する酸化亜鉛系の透明導電膜であって、ケイ素をSiO2 換算で0.01〜1.5モル%含むことを特徴とする透明導電膜とその製造方法およびスパッタリングターゲット。

請求項（抜粋）：

ガリウムとケイ素とを含有する酸化亜鉛系の透明導電膜であって、ケイ素の含有割合がSiO2 換算で0.01〜1.5モル%であることを特徴とする透明導電膜。

IPC (6件)：

H01B 5/14 ,  C01G 9/00 ,  C23C 14/34 ,  H01B 13/00 503 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/285

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭62-154411