特許
J-GLOBAL ID：200903075658644640
プラズマ発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-178842
公開番号（公開出願番号）：特開平6-111996
出願日： 1993年07月20日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：
【要約】【目的】 高真空の下で高密度且つ均一性に優れたプラズマを発生することができるプラズマ発生装置を提供する。【構成】 チャンバー1の壁面1aの内側には、第1の電極としての3個の側方電極2A,2B,2Cが等間隔に円周状に設けられている。側方電極2A,2B,2Cには位相がおよそ120°づつ異なった50MHzの高周波電力が印加されている。チャンバー1の底部には第2の電極としての試料台4が設けられ、該試料台4の外側にはリング状のアース電極5が設けられている。試料台4には13.56MHzの高周波電力が印加されている。3個の側方電極2A,2B,2Cとアース電極5との間隔は、試料台4とアース電極5との間隔よりも大きい。
請求項（抜粋）：
真空室と、該真空室内に略等間隔に設けられたN個(Nは2以上の整数)の第1の電極と位相がおよそ(360/N)度づつずれた第1周波数の高周波電力を上記第1の電極にその配置順に印加する第1の高周波電力供給源とからなり上記第1の電極により形成される回転電界によって上記第1の電極に囲まれたプラズマ発生部に高密度のプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、上記真空室内に設けられた第2の電極およびアース電極と上記第2の電極に第2周波数の高周波電力を印加する第2の高周波電源供給源とからなり上記プラズマ発生部に発生したプラズマ中からイオンを引き出すイオン引出し手段とを備えたプラズマ発生装置において、上記アース電極は、該アース電極と上記第2の電極とにより形成される電界が上記第1の電極により形成される回転電界と干渉しないような位置に設けられていることを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (6件)：
H05H 1/46
, C23C 14/34
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/302
