特許
J-GLOBAL ID:200903075660769450

フォトレジスト組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高木 千嘉 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-065740
公開番号(公開出願番号):特開平8-286376
出願日: 1996年03月22日
公開日(公表日): 1996年11月01日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 フォトレジスト、殊にDUVフォトレジストとして有用な、保存、および処理安定性に優れ、高解像力を有する組成物の提供。【解決手段】 成分A、BおよびCの合計量を基準に:(A) 60〜97.9重量%の、4000から1,000,000までの平均分子量Mw(重量平均)を有し、かつ式I〜IVのくり返し構成単位からなる少なくとも1つのポリマー、例ポリ〔4-(1-エトキシエトキシ)スチレン/4-(1エトキシエトキシ)ビニルシクロヘキサン/4-ヒドロキシスチレン/4-ビニルシクロヘキサノール〕(B) 2〜40重量%の、少なくとも1つの酸不安定なC-O-CまたはC-O-Si結合を含み、3000までの分子量を有する、1つまたはそれより多くの化合物からなる溶解抑制剤、および(C) 0.1〜20重量%の、化学放射線に対する露光に際して酸を生成する物質、から構成される。
請求項(抜粋):
成分A、BおよびCの合計量を基準にして:(A) 60〜97.9重量%の、ゲル透過クロマトグラフィーで測定して4000から1,000,000までの平均分子量Mw(重量平均)を有し、かつ式I〜IVのくり返し構成単位からなる少なくとも1つのポリマー、【化1】ここでR1、R2、R3およびR4は互いに独立的に水素、メチルまたはハロゲンであり、R5とR6は互いに独立的にC1〜C6アルキルまたは未置換シクロアルキルまたはモノ-またはポリ-C1〜C4アルキル置換シクロアルキルであり、R7、R8、R9およびR10は互いに独立的に水素、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシまたはハロゲンであり、Gはメチル基であるか、またはGとR5とがこれらの基に結合しているOおよびC原子と一緒に5〜8員リングを形成し、Lはメチル基であるか、またはLとR6とがこれらの基に結合しているOおよびC原子と一緒に5〜8員リングを形成し、w、x、yおよびzは1に等しいかまたはこれより大きい数であり、ただし、グループを含む構成単位の合計数を存在するすべての構成単位の合計数で割って得られる商Q=(w+y)/(w+x+y+z)が0.05≦Q≦0.40であることを条件とする、(B) 2〜40重量%の、少なくとも1つの酸不安定なC-O-CまたはC-O-Si結合を含み、3000までの分子量を有する、1つまたはそれより多くの化合物からなる溶解抑制剤、および(C) 0.1〜20重量%の、化学放射線に対する露光に際して酸を生成する物質、とから構成される感光性組成物。
IPC (7件):
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00
FI (7件):
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H05K 3/00 F ,  H01L 21/30 502 R

前のページに戻る