特許
J-GLOBAL ID：200903075668478382
フォトレジストの現像方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-205400
公開番号（公開出願番号）：特開平8-069961
出願日： 1994年08月30日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：
【要約】【目的】 フォトレジストの現像工程で発生する排液量を減容する。【構成】 表面のフォトレジストを感光させたウェハー2の表面に現像液3を滴下した後、ウェハー2をスピナーに取付け、これを回転させつつウェハー表面に気体10を噴射し、ウェハー表面に付着する現像液3を飛散させて除去する。フォトレジストは、ポジタイプであり、現像液はアルカリ性である。気体10にはその水溶液が酸性を示し、現像液に若干溶解する炭酸ガスなどの気体を用い、フォトレジスト上に僅かに残留する現像液を中和する。一方、スピナーの回収容器7に回収された排液量は減容され、排液8中の現像液の濃度は高く、これを容易に再生処理して再資源化できる。
請求項（抜粋）：
パターン形成工程と、現像液除去工程とを有するフォトレジストの現像方法であって、パターン形成工程は、感光処理が施された半導体基板のポジタイプのフォトレジスト上にアルカリ性の現像液を供給してフォトレジストの表面を覆い、感光部分のフォトレジストを分解する工程であり、現像液除去工程は、水溶液が酸性を示す気体を半導体基板に吹付け、半導体基板の表面から現像液を除去するとともにフォトレジスト上に残留する現像液を中和する工程であることを特徴とするフォトレジストの現像方法。
IPC (2件)：
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