特許
J-GLOBAL ID：200903075699444397
磁気抵抗効果ヘッド及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-198177
公開番号（公開出願番号）：特開平8-063717
出願日： 1994年08月23日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：
【要約】【構成】MRヘッドのセンサ部の両脇に配置する縦バイアス膜と電極膜のうち、間隔の広い方の端部を、狭い方の端部よりも急峻なテーパ形状にする。また、リフトオフ法を利用し、縦バイアス膜と電極膜の二つのパターンを、一つのマスク材を用いて作製する。【効果】磁気ギャップ膜のつきまわりが改善され、電極/磁気シールド間の絶縁耐圧を大きくでき、また、縦バイアス膜と電極膜のパターン位置合わせ精度が向上し、製造コストを低減できる。
請求項（抜粋）：
磁気抵抗効果膜と、該磁気抵抗効果膜のセンサ両端部に設けた一対の縦バイアス膜と、前記磁気抵抗効果膜のセンサ両端部に設けた一対の電極膜とを備えた磁気抵抗効果ヘッドにおいて、前記磁気抵抗効果膜側に隣接する前記縦バイアス膜及び前記電極膜の端部が角度90度未満のテーパ状となっており、センサ部分における前記一対の縦バイアス膜の間隔と前記一対の電極膜の間隔のうち、大きい方の端部テーパ角度が小さい方の端部テーパ角度よりも急峻であることを特徴とする磁気抵抗効果ヘッド。
IPC (2件)：
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