特許

J-GLOBAL ID：200903075703276690

微細パターン形成方法

発明者： 森内 昇 ,  白井 精一郎 ,  曽田 祐一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-178345
公開番号（公開出願番号）：特開平6-019114
出願日： 1992年07月06日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：

【要約】【目的】 レベンソン型位相シフト法と変形照明法を所定の条件のもとで組み合せることにより、レベンソン型位相シフト法を単独で用いた場合若しくは変形照明法を単独で用いた場合に比ベて解像度、焦点深度を向上できる。【構成】 変形照明を用いた露光装置で露光する際に原版となるフォトマスクの一部又は全部に位相シフタを配設し、変形照明法と位相シフタ法を光学的に組み合せる微細パターン形成方法である。前記フォトマスクの位相シフタが、露光波長の0.5 倍の位相シフトを与えるシフタ厚とは異なるシフタ厚から成る。

請求項（抜粋）：

変形照明を用いた露光装置で露光する際に原版となるフォトマスクの一部又は全部に位相シフタを配設し、変形照明法と位相シフト法を光学的に組み合せることを特徴とする微細パターン形成方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W