特許

J-GLOBAL ID：200903075704989950

露光装置

発明者： 鈴木 一明
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-014483
公開番号（公開出願番号）：特開平6-232031
出願日： 1993年02月01日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：

【要約】【目的】 スリットスキャン露光方式の露光装置において、露光中にスリット状の照明領域の幅を変えることなく、レチクル上の複数のパターン領域中の所望のパターン領域のパターンを感光基板上に転写する。【構成】 光源1からの照明光でフライアイレンズ4、コリメータレンズ5等を介して視野絞り6を照明し、視野絞り6の開口部とリレーレンズ7に関して共役なレチクルR上のスリット状の照明領域を照明し、レチクルRのスリット状の照明領域内のパターンを投影光学系13を介してウエハW上に転写する。遮光板8A,8BでレチクルR上の露光したくない領域を覆った状態で、レチクルR及びウエハWをそのスリット状の照明領域に対して相対的に走査する。

請求項（抜粋）：

転写用のパターンが形成されたマスク上のスリット状の照明領域を照明する照明光学系と、前記スリット状の照明領域に対して前記マスクと該マスクのパターンが露光される感光基板とを同期して走査する相対走査手段とを有し、前記スリット状の照明領域に対して前記マスクと前記感光基板とを同期して走査することにより、前記マスク上の前記スリット状の照明領域よりも広い面積のパターンを前記感光基板上に露光する露光装置において、前記マスク上で前記照明光学系により設定される前記スリット状の照明領域による照明を避けたい領域を覆うための遮光手段を設けたことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 S ,  H01L 21/30 311 L