特許

J-GLOBAL ID：200903075724589540

廃棄物処理設備内の付着物・堆積物のサンプリング装置

発明者： 澁谷 榮一
出願人/特許権者： 日本鋼管株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-169320
公開番号（公開出願番号）：特開2002-365175
出願日： 2001年06月05日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：

【要約】【課題】 廃棄物処理設備の補修や解体を行なうに先立って行なわれる廃棄物処理設備内の付着物や堆積物のサンプリングが廃棄物処理設備内に入ることなく、容易且つ短時間で行なえる。【解決手段】 炉壁1の一部に形成された貫通孔4内に、炉壁1の外部から抜き挿し自在に取り付けられるサンプリング部材5を備えている。

請求項（抜粋）：

廃棄物処理設備の仕切壁の一部に形成された貫通孔内に、前記仕切壁の外部から抜き挿し自在に取り付けられるサンプリング部材を備えたことを特徴とする、廃棄物処理設備内の付着物・堆積物のサンプリング装置。

IPC (3件)：

G01N 1/04 ,  F23G 5/00 ZAB ,  F27D 21/00

FI (3件)：

G01N 1/04 V ,  F23G 5/00 ZAB Z ,  F27D 21/00 Z

Fターム (14件)：

2G052AA11 ,  2G052AA16 ,  2G052AA18 ,  2G052AA21 ,  2G052AB22 ,  2G052AC23 ,  2G052AD12 ,  2G052BA12 ,  2G052BA21 ,  2G052JA07 ,  4K056AA00 ,  4K056AA05 ,  4K056CA20 ,  4K056FA11