特許
J-GLOBAL ID：200903075728007910
ホトマスク検査方法および検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-174032
公開番号（公開出願番号）：特開平6-019119
出願日： 1992年07月01日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：
【要約】【目的】 ホトマスク上の透明欠陥に対する検出感度を高める。【構成】 チップ比較型ホトマスク欠陥検査装置は、ホトマスク5上の同一のパターンを持つ2つのチップ間のパターンの違いを比較し、もし両者でパターンが異なっていればその部分を欠陥として認識する。水銀ランプと波長選択フィルタ2と集光レンズ3により構成される光源ユニット1からの部分コヒーレントな2本の光を、試料台6上のホトマスク5の所定の位置に照射する。試料台6はレーザー干渉計により位置決めされており、高精度な移動ができる。ホトマスク5を透過した光は対物レンズ7を通して集光され固体撮像素子(CCD)9上にホトマスクパターンの像を形成する。
請求項（抜粋）：
マスク検査装置の光学系において、マスクからの直接光を遮断し、回折光のみの情報を用いてマスク欠陥の検出を行うことを特徴とするマスク検査方法。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G01N 21/88
, H01L 21/027
, H01L 21/66
