特許
J-GLOBAL ID:200903075761692505

磁気記録媒体の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-076799
公開番号(公開出願番号):特開平11-339261
出願日: 1999年03月19日
公開日(公表日): 1999年12月10日
要約:
【要約】【課題】 耐酸化性や耐食性に優れているとともに大きな角型比を有しており、しかも、コバルト量に対し可及的に高い保磁力値を有するとともに広い範囲で保磁力値の制御が可能であるコバルト含有マグヘマイト垂直磁化膜を基材の材質に制約されることなく、工業的、経済的に有利に得る。【解決手段】 プラスチック基体上に、(200)面が該基体の表面に平行に優先配向したニッケル酸化物下地膜を形成した後、該ニッケル酸化物下地膜上に、240°C未満の基体温度において、(400)面が上記基体表面に平行に優先配向したコバルト含有マグネタイト薄膜を形成し、次いで、希ガスを含むプラズマ活性化された酸素雰囲気中、240°C未満の基体温度で上記コバルト含有マグネタイト薄膜を酸化して(400)面の面間隔が2.082Å以下であるコバルト含有マグヘマイト垂直磁化膜とすることにより得られる。
請求項(抜粋):
プラスチック基体上に、(200)面が該基体の表面に平行に優先配向したニッケル酸化物下地膜を形成した後、該ニッケル酸化物下地膜上に、240°C未満の基体温度において、(400)面が上記基体表面に平行に優先配向したコバルト含有マグネタイト薄膜を形成し、次いで、希ガスを含むプラズマ活性化された酸素雰囲気中、240°C未満の基体温度で上記コバルト含有マグネタイト薄膜を酸化して(400)面の面間隔が2.082Å以下であるコバルト含有マグヘマイト垂直磁化膜とすることを特徴とする磁気記録媒体の製造法。
IPC (3件):
G11B 5/84 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/34
FI (3件):
G11B 5/84 Z ,  C23C 14/06 T ,  C23C 14/34 P
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 磁気記録媒体及びその製造法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-083137   出願人:戸田工業株式会社
  • 特開昭52-065897
  • 特開昭52-065898
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