特許
J-GLOBAL ID:200903075773355229
セルフクリーニング表面を有する基板、その製造方法およびその使用
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (12件):
岡部 正夫
, 加藤 伸晃
, 産形 和央
, 臼井 伸一
, 藤野 育男
, 越智 隆夫
, 本宮 照久
, 高梨 憲通
, 朝日 伸光
, 高橋 誠一郎
, 吉澤 弘司
, 松井 孝夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-551485
公開番号(公開出願番号):特表2004-516216
出願日: 2001年12月04日
公開日(公表日): 2004年06月03日
要約:
セルフクリーニング表面を有する基板、特にガラス、セラミック、プラスチックおよび金属の基板、ならびにグレーズまたはエナメル加工基板は、基板上に位置する少なくとも部分的に表面疎水性の構造化された(凹凸)コーティングを含む。本発明による基板は、コーティングの構造の形成のために、平均直径が100nm未満、特に5以上50nm未満の粒子を含む。本発明による基板の構造化コーティングを製造するために使用される本発明による組成物は、構造形成粒子に加えて層形成材料を、100:1〜1:2の重量比、特に20:1〜1:1の重量比で含む。優れたセルフクリーニング特性を有することに加えて、当該コーティングはその透明性で特徴付けられる。基板の使用は、特に、大部分の様々なガラス物品を対象とする。
請求項(抜粋):
基板上に配列され、表面構造を形成する粒子を含み、かつ少なくとも部分的に表面疎水性であるコーティングを含む、少なくとも1つのセルフクリーニング表面を有する基板、特にガラス、セラミック、プラスチックおよび金属の基板、もしくはグレーズまたはエナメル加工基板であって、
前記構造形成粒子は、100nm未満の平均直径を有することを特徴とする基板。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (35件):
4G059AA00
, 4G059AA08
, 4G059AC22
, 4G059DA00
, 4G059EA01
, 4G059EA02
, 4G059EA04
, 4G059EA05
, 4G059EA10
, 4G059EA11
, 4G059EA12
, 4G059EA13
, 4G059EB09
, 4G059FA05
, 4G059FB05
, 4G059GA01
, 4G059GA04
, 4G059GA16
, 4K044AA01
, 4K044AA02
, 4K044AA11
, 4K044AA16
, 4K044AB02
, 4K044BA01
, 4K044BA13
, 4K044BA14
, 4K044BA17
, 4K044BA18
, 4K044BA21
, 4K044BB01
, 4K044BB11
, 4K044BC00
, 4K044CA29
, 4K044CA53
, 4K044CA62
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