特許
J-GLOBAL ID:200903075773355229

セルフクリーニング表面を有する基板、その製造方法およびその使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (12件): 岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  産形 和央 ,  臼井 伸一 ,  藤野 育男 ,  越智 隆夫 ,  本宮 照久 ,  高梨 憲通 ,  朝日 伸光 ,  高橋 誠一郎 ,  吉澤 弘司 ,  松井 孝夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-551485
公開番号(公開出願番号):特表2004-516216
出願日: 2001年12月04日
公開日(公表日): 2004年06月03日
要約:
セルフクリーニング表面を有する基板、特にガラス、セラミック、プラスチックおよび金属の基板、ならびにグレーズまたはエナメル加工基板は、基板上に位置する少なくとも部分的に表面疎水性の構造化された(凹凸)コーティングを含む。本発明による基板は、コーティングの構造の形成のために、平均直径が100nm未満、特に5以上50nm未満の粒子を含む。本発明による基板の構造化コーティングを製造するために使用される本発明による組成物は、構造形成粒子に加えて層形成材料を、100:1〜1:2の重量比、特に20:1〜1:1の重量比で含む。優れたセルフクリーニング特性を有することに加えて、当該コーティングはその透明性で特徴付けられる。基板の使用は、特に、大部分の様々なガラス物品を対象とする。
請求項(抜粋):
基板上に配列され、表面構造を形成する粒子を含み、かつ少なくとも部分的に表面疎水性であるコーティングを含む、少なくとも1つのセルフクリーニング表面を有する基板、特にガラス、セラミック、プラスチックおよび金属の基板、もしくはグレーズまたはエナメル加工基板であって、 前記構造形成粒子は、100nm未満の平均直径を有することを特徴とする基板。
IPC (2件):
C03C17/38 ,  C23C26/00
FI (2件):
C03C17/38 ,  C23C26/00 C
Fターム (35件):
4G059AA00 ,  4G059AA08 ,  4G059AC22 ,  4G059DA00 ,  4G059EA01 ,  4G059EA02 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4G059EA10 ,  4G059EA11 ,  4G059EA12 ,  4G059EA13 ,  4G059EB09 ,  4G059FA05 ,  4G059FB05 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA16 ,  4K044AA01 ,  4K044AA02 ,  4K044AA11 ,  4K044AA16 ,  4K044AB02 ,  4K044BA01 ,  4K044BA13 ,  4K044BA14 ,  4K044BA17 ,  4K044BA18 ,  4K044BA21 ,  4K044BB01 ,  4K044BB11 ,  4K044BC00 ,  4K044CA29 ,  4K044CA53 ,  4K044CA62

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