特許

J-GLOBAL ID：200903075789954742

芳香族ジホスフエートの製造方法と用途

発明者： 松村 忠典 ,  田中 良典
出願人/特許権者： 大八化学工業株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-211193
公開番号（公開出願番号）：特開平5-001079
出願日： 1991年08月23日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：

【要約】【構成】 一般式(I):【化1】(式中、R1及びR2は同一または異なって、低級アルキル基を、R3及びR4は同一または異なって水素原子または低級アルキル基を、Yは結合手、-CH2-、-C(CH3)2-、-S-、-SO2-、-O-、-CO-もしくは-N=N-基を、kは0または1を及びmは0〜4の整数を示す。)で示される芳香族ジホスフェートを結晶性粉末として得る製造方法。【効果】 高純度で得られるこの化合物は、熱安定性に優れ、また成形加工性を著しく改善し、各種樹脂に優れた難燃性を付与し得る。

請求項（抜粋）：

一般式(II):【化1】(式中、R1及びR2は、同一または異なって低級アルキル基を、R3は水素原子または低級アルキル基を示す。)で示されるオルト位に立体障害基を有する芳香族モノヒドロキシ化合物とオキシハロゲン化リンとをルイス酸触媒の存在下で反応させ、一般式 (III):【化2】(式中、R1、R2、R3は上記と同一定義、及びXはハロゲンを示す。)で示されるジアリールホスホロハリデートを得、ついでこれに一般式(IV):【化3】(式中、R4は水素原子または低級アルキル基を、Yは結合手、-CH2-、-C(CH3)2-、-S-、-SO2-、-O-、-CO-、もしくは-N=N-基を、kは0または1を、及びmは0〜4の整数を示す。)で示される芳香族ジヒドロキシ化合物をルイス酸触媒下に反応させて一般式(I):【化4】(式中、R1、R2、R3、R4、Y、 k及びmは上記と同一意義)で示される芳香族ジホスフェートを結晶性粉末として得ることを特徴とする芳香族ジホスフェートの製造方法。

IPC (3件)：

C07F 9/08 ,  C08K 5/524 KCB ,  C08L101/00