特許

J-GLOBAL ID：200903075795406617

レチクル異物検査装置、レチクル異物検査機能を有する露光装置および半導体装置の製造方法

発明者： 菅原 宗一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-267119
公開番号（公開出願番号）：特開2000-098589
出願日： 1998年09月21日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】レチクル異物検査装置内で異物を除去することにより、異物を除去するために人間が介在する手間を省くことである。【解決手段】レチクル異物検査装置を用いてレチクル1に付着した異物2除去を行う場合は、異物検査後にレチクル1を搬送アーム4にて異物除去ユニット9内のレチクルステージ6bに搬送される。搬送されたレチクル1は異物検査で検出された異物2箇所をN2ガス噴射ノズル10付近へ移動し、N2ガス噴射ノズル10からN2ガスが2〜5秒間噴射される。これと同時に異物除去ユニット9内は排気される。加圧されたN2を吹き付けることにより、レチクル1上の異物2は吹き飛ばされる。その後、再度異物検査を行い異物2が除去されたことを確認する。検査終了後、レチクル1は元のレチクルケース3に収納される。

請求項（抜粋）：

レチクルの異物検査装置において、レチクルに付着している異物を圧縮ガスを吹き付けて除去する機能を有することを特徴とするレチクル異物検査装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 S ,  G03F 1/08 X ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 G

Fターム (4件)：

2H095BA02 ,  2H095BB21 ,  2H095BD05 ,  5F046AA18