特許
J-GLOBAL ID:200903075813717340
表面処理粉体及びこれを含有する化粧料
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩橋 祐司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-270008
公開番号(公開出願番号):特開2006-131887
出願日: 2005年09月16日
公開日(公表日): 2006年05月25日
要約:
【課題】 疎水性に優れるとともに、洗い流し性の改善された表面処理粉体、及びこれを含有する化粧料を提供する。【解決手段】 粉体表面上に、下記一般式(1)で示されるモノマー(A)を構成モノマーとして含有するポリマーが被覆されていることを特徴とする表面処理粉体。【化1】(式中、R1は水素又は炭素数1〜3のアルキル基、R2は炭素数4〜22のアルキレン基、X1は-NH-基又は酸素原子、M1は水素又は1価の無機又は有機カチオンを表す。)【選択図】 なし
請求項(抜粋):
粉体表面上に、下記一般式(1)で示されるモノマー(A)を構成モノマーとして含有するポリマーが被覆されていることを特徴とする表面処理粉体。
IPC (16件):
C09D 133/00
, A61K 8/19
, A61K 8/49
, A61K 8/72
, A61K 8/96
, A61K 8/18
, A61Q 1/02
, C08F 20/26
, C08F 20/34
, C08F 20/54
, C08F 30/02
, C08F 30/08
, C09D 5/03
, C09D 133/04
, C09D 133/14
, C09D 133/24
FI (15件):
C09D133/00
, A61K7/00 B
, A61K7/00 D
, A61K7/00 J
, A61K7/00 K
, A61K7/02 P
, C08F20/26
, C08F20/34
, C08F20/54
, C08F30/02
, C08F30/08
, C09D5/03
, C09D133/04
, C09D133/14
, C09D133/24
Fターム (143件):
4C083AA082
, 4C083AA112
, 4C083AA122
, 4C083AA161
, 4C083AA162
, 4C083AB032
, 4C083AB082
, 4C083AB171
, 4C083AB172
, 4C083AB211
, 4C083AB212
, 4C083AB231
, 4C083AB232
, 4C083AB241
, 4C083AB242
, 4C083AB282
, 4C083AB312
, 4C083AB332
, 4C083AB361
, 4C083AB362
, 4C083AB432
, 4C083AB441
, 4C083AB442
, 4C083AC012
, 4C083AC022
, 4C083AC072
, 4C083AC092
, 4C083AC102
, 4C083AC122
, 4C083AC132
, 4C083AC172
, 4C083AC212
, 4C083AC242
, 4C083AC262
, 4C083AC302
, 4C083AC342
, 4C083AC352
, 4C083AC372
, 4C083AC392
, 4C083AC422
, 4C083AC432
, 4C083AC442
, 4C083AC482
, 4C083AC532
, 4C083AC542
, 4C083AC582
, 4C083AC662
, 4C083AC692
, 4C083AC712
, 4C083AC792
, 4C083AC842
, 4C083AC852
, 4C083AC912
, 4C083AD011
, 4C083AD012
, 4C083AD022
, 4C083AD042
, 4C083AD071
, 4C083AD072
, 4C083AD091
, 4C083AD092
, 4C083AD112
, 4C083AD131
, 4C083AD132
, 4C083AD152
, 4C083AD161
, 4C083AD162
, 4C083AD172
, 4C083AD212
, 4C083AD222
, 4C083AD241
, 4C083AD242
, 4C083AD252
, 4C083AD262
, 4C083AD272
, 4C083AD302
, 4C083AD332
, 4C083AD342
, 4C083AD352
, 4C083AD412
, 4C083AD492
, 4C083AD512
, 4C083AD532
, 4C083AD572
, 4C083AD642
, 4C083AD662
, 4C083BB25
, 4C083BB32
, 4C083BB33
, 4C083BB34
, 4C083CC01
, 4C083CC02
, 4C083CC03
, 4C083CC05
, 4C083CC11
, 4C083CC12
, 4C083CC13
, 4C083CC14
, 4C083CC19
, 4C083CC31
, 4C083CC33
, 4C083DD11
, 4C083DD17
, 4C083DD21
, 4C083DD22
, 4C083DD23
, 4C083DD27
, 4C083DD28
, 4C083DD31
, 4C083DD32
, 4C083DD38
, 4C083DD39
, 4C083EE07
, 4C083EE11
, 4C083FF01
, 4J038CG141
, 4J038CG171
, 4J038CH141
, 4J038CH15
, 4J038CH211
, 4J038CH261
, 4J038DL131
, 4J038GA06
, 4J038GA13
, 4J038MA02
, 4J038PB01
, 4J100AL04Q
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AM21P
, 4J100AM21Q
, 4J100BA03Q
, 4J100BA05Q
, 4J100BA08Q
, 4J100BA16P
, 4J100BA31Q
, 4J100BA56Q
, 4J100BA64Q
, 4J100BA81Q
, 4J100BB01Q
, 4J100BB17Q
, 4J100BC43P
, 4J100JA61
引用特許:
出願人引用 (3件)
-
特開昭60-163973号公報
-
特開昭62-177070号公報
-
処理粉体およびそれを配合した化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-170355
出願人:株式会社資生堂
前のページに戻る