表面処理粉体及びこれを含有する化粧料

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩橋祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-270008
公開番号（公開出願番号）：特開2006-131887
出願日： 2005年09月16日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：

【課題】疎水性に優れるとともに、洗い流し性の改善された表面処理粉体、及びこれを含有する化粧料を提供する。【解決手段】粉体表面上に、下記一般式(1)で示されるモノマー(A)を構成モノマーとして含有するポリマーが被覆されていることを特徴とする表面処理粉体。【化1】(式中、R1は水素又は炭素数1〜3のアルキル基、R2は炭素数4〜22のアルキレン基、X1は-NH-基又は酸素原子、M1は水素又は1価の無機又は有機カチオンを表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

粉体表面上に、下記一般式(1)で示されるモノマー(A)を構成モノマーとして含有するポリマーが被覆されていることを特徴とする表面処理粉体。

IPC (16件)：

C09D 133/00 , A61K 8/19 , A61K 8/49 , A61K 8/72 , A61K 8/96 , A61K 8/18 , A61Q 1/02 , C08F 20/26 , C08F 20/34 , C08F 20/54 , C08F 30/02 , C08F 30/08 , C09D 5/03 , C09D 133/04 , C09D 133/14 , C09D 133/24

FI (15件)：

C09D133/00 , A61K7/00 B , A61K7/00 D , A61K7/00 J , A61K7/00 K , A61K7/02 P , C08F20/26 , C08F20/34 , C08F20/54 , C08F30/02 , C08F30/08 , C09D5/03 , C09D133/04 , C09D133/14 , C09D133/24

Fターム (143件)：

4C083AA082 , 4C083AA112 , 4C083AA122 , 4C083AA161 , 4C083AA162 , 4C083AB032 , 4C083AB082 , 4C083AB171 , 4C083AB172 , 4C083AB211 , 4C083AB212 , 4C083AB231 , 4C083AB232 , 4C083AB241 , 4C083AB242 , 4C083AB282 , 4C083AB312 , 4C083AB332 , 4C083AB361 , 4C083AB362 , 4C083AB432 , 4C083AB441 , 4C083AB442 , 4C083AC012 , 4C083AC022 , 4C083AC072 , 4C083AC092 , 4C083AC102 , 4C083AC122 , 4C083AC132 , 4C083AC172 , 4C083AC212 , 4C083AC242 , 4C083AC262 , 4C083AC302 , 4C083AC342 , 4C083AC352 , 4C083AC372 , 4C083AC392 , 4C083AC422 , 4C083AC432 , 4C083AC442 , 4C083AC482 , 4C083AC532 , 4C083AC542 , 4C083AC582 , 4C083AC662 , 4C083AC692 , 4C083AC712 , 4C083AC792 , 4C083AC842 , 4C083AC852 , 4C083AC912 , 4C083AD011 , 4C083AD012 , 4C083AD022 , 4C083AD042 , 4C083AD071 , 4C083AD072 , 4C083AD091 , 4C083AD092 , 4C083AD112 , 4C083AD131 , 4C083AD132 , 4C083AD152 , 4C083AD161 , 4C083AD162 , 4C083AD172 , 4C083AD212 , 4C083AD222 , 4C083AD241 , 4C083AD242 , 4C083AD252 , 4C083AD262 , 4C083AD272 , 4C083AD302 , 4C083AD332 , 4C083AD342 , 4C083AD352 , 4C083AD412 , 4C083AD492 , 4C083AD512 , 4C083AD532 , 4C083AD572 , 4C083AD642 , 4C083AD662 , 4C083BB25 , 4C083BB32 , 4C083BB33 , 4C083BB34 , 4C083CC01 , 4C083CC02 , 4C083CC03 , 4C083CC05 , 4C083CC11 , 4C083CC12 , 4C083CC13 , 4C083CC14 , 4C083CC19 , 4C083CC31 , 4C083CC33 , 4C083DD11 , 4C083DD17 , 4C083DD21 , 4C083DD22 , 4C083DD23 , 4C083DD27 , 4C083DD28 , 4C083DD31 , 4C083DD32 , 4C083DD38 , 4C083DD39 , 4C083EE07 , 4C083EE11 , 4C083FF01 , 4J038CG141 , 4J038CG171 , 4J038CH141 , 4J038CH15 , 4J038CH211 , 4J038CH261 , 4J038DL131 , 4J038GA06 , 4J038GA13 , 4J038MA02 , 4J038PB01 , 4J100AL04Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AM21P , 4J100AM21Q , 4J100BA03Q , 4J100BA05Q , 4J100BA08Q , 4J100BA16P , 4J100BA31Q , 4J100BA56Q , 4J100BA64Q , 4J100BA81Q , 4J100BB01Q , 4J100BB17Q , 4J100BC43P , 4J100JA61

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭60-163973号公報
特開昭62-177070号公報
処理粉体およびそれを配合した化粧料
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-170355 出願人：株式会社資生堂

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