特許
J-GLOBAL ID：200903075814376864
超短電磁波パルスの波形処理方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
清水 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-227006
公開番号（公開出願番号）：特開2001-051211
出願日： 1999年08月11日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：
【要約】【課題】 装置を小型化し、かつ簡素化することができる超短電磁波パルスの波形処理方法及びその装置を提供する。【解決手段】 超短電磁波パルスの波形処理装置において、超短電磁波パルスを発生する超短電磁波パルス源としての超短パルスレーザー101と、この超短パルスレーザー101から得られる超短電磁波パルス波形を整形・圧縮する線形媒質上に形成された回折格子102とを具備する。
請求項（抜粋）：
超短電磁波パルスの波形処理方法において、線形媒質上に形成された1枚のみの回折格子を用い、非線形光学効果を用いることなく超短電磁波パルス波形を整形・圧縮することを特徴とする超短電磁波パルスの波形処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
5F072HH07
, 5F072KK07
, 5F072MM20
, 5F072RR01
, 5F072SS08
