走査型露光装置及び該装置を用いてデバイスを製造する方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-174313
公開番号（公開出願番号）：特開平7-029803
出願日： 1993年07月14日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：

【要約】【目的】マスクのパターンを基板上のパターンに正確に重ねる。【構成】マスク1とウエハ3とをX方向に動かすことによりスリット状の露光ビーム6でマスク1とウエハ3とを走査し、描画装置によりマスク1に描かれたパターン21を投影光学系2によりウエハ3のパターン22上に順次結像する時、回路102によりマスク1に描かれた複数個の位置合わせマーク51の位置から描画時に生じたパターン21の描画誤差を検出し、駆動手段103により、検出した描画誤差が補正され、パターン21、22が互いに正確に重なるよう、マスクステージ4とウエハーステージ5の移動を制御する。

請求項（抜粋）：

マスクと被露光基板とを露光ビームで走査することにより前記マスクに描かれたパターンを前記被露光基板上に転写する走査型露光装置において、前記パターンの描画誤差を補正するよう前記マスクと被露光基板の少なくとも一方を動かす手段を備えることを特徴とする走査型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 518 , H01L 21/30 529

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