特許
J-GLOBAL ID：200903075818926141
メッキ方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-338773
公開番号（公開出願番号）：特開平7-157879
出願日： 1993年12月02日
公開日（公表日）： 1995年06月20日
要約：
【要約】【目的】 基材に水素を吸蔵し、この吸蔵水素を利用して金属の還元析出する金属メッキ方法を提供する。【構成】 本発明のメッキ方法は水素ガスを流通あるいは加圧して基材中に水素を吸蔵させた後、Au、Ag、Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os、Cu、Pb、Ni、Coの1種以上である金属塩あるいは金属塩水溶液を加え、基材表面上に金属を還元析出させる方法である。
請求項（抜粋）：
金属メッキの方法において、水素を吸蔵する金属基材に水素ガスを流通あるいは加圧し、金属基材に水素を吸蔵させた後、上記金属基材を金属含有水溶液に浸漬し、基材表面に還元析出させることを特徴とする金属メッキ方法。
IPC (3件)：
C23C 18/18
, C23C 18/31
, C23C 18/44
