特許
J-GLOBAL ID：200903075819481720
凹凸酸化膜付き透光性絶縁性基板とその製造方法およびこれを用いたTFT液晶表示装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
蔵合 正博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-344376
公開番号（公開出願番号）：特開平6-235934
出願日： 1992年12月24日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：
【要約】【目的】 凹凸酸化膜付き透光性絶縁性基板を用いて配線抵抗の低い絵素面積の広い平坦なTFT液晶表示装置を提供すること。【構成】 透光性絶縁性基板1上に凹凸酸化膜12を陽極酸化法にて作り、その凹部パターン12bに配線電極を形成し、ゲートバス電極とソースバス電極の交差部を表面に突出させないようにする。これにより電極の線幅を電気抵抗を高くすることなく狭くすることができる。
請求項（抜粋）：
ゲートバス電極とソースバス電極を形成可能な凹部パターンを有する酸化膜を表面に備えた凹凸酸化膜付き透光性絶縁性基板。
IPC (4件)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/1343
, H01L 21/316
, H01L 29/784
