特許

J-GLOBAL ID：200903075820040983

ダブルビーム用精密可変型矩形ビーム光学系

発明者： 山崎 和則
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 井上 義雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-194784
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023919
出願日： 1999年07月08日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】 複数のレーザ光源を組み合わせた場合にも、効率的に加工光を照射することができ、精度の高い加工を可能にするビーム形成装置及びこれを用いたレーザ加工装置。【解決手段】 合成光学系30は、ナイフエッジミラー31、32からなり、第1ビームLB1を一対のナイフエッジ31a、32a間に通過させるとともに第2ビームLB2を一対のナイフエッジ31a、32aによって分割する。ダイバージェンス光学系71は第1ビームLB1についてホモジナイザ41による結像位置を微調整する。テレスコープ光学系72は、第2ビームLB2のビームサイズを第1ビームLB1のビームサイズと一致させる。

請求項（抜粋）：

一対の異なる光源からの一対の照射光を空間的に継ぎ合わせて合成する合成光学系と、前記合成光学系で合成された合成光を複数に分割するとともに分割された合成光を重畳して照射することにより、前記一対の照射光を略同一サイズの均一ビームとして所定面上にそれぞれ入射させるホモジナイザとを備えるビーム形成装置。

IPC (4件)：

H01L 21/268 ,  B23K 26/06 ,  G02B 27/09 ,  H01L 21/20

FI (5件)：

H01L 21/268 J ,  B23K 26/06 C ,  B23K 26/06 A ,  H01L 21/20 ,  G02B 27/00 E

Fターム (11件)：

4E068AH00 ,  4E068CA07 ,  4E068CA11 ,  4E068CD02 ,  4E068CD04 ,  4E068CD08 ,  4E068CD12 ,  5F052AA02 ,  5F052BA11 ,  5F052BA18 ,  5F052DA02