特許

J-GLOBAL ID：200903075822290219

基板外周部の残渣除去装置

発明者： 長野 勝一
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-110754
公開番号（公開出願番号）：特開2001-297962
出願日： 2000年04月12日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：

【要約】【課題】基板外周部のフォトレジストの微量な残渣がシールの信頼性の劣化などさせないように、微量な残渣を除去する残渣除去装置10を提供すること。【解決手段】基板外周部Wのフォトレジストビーズ除去後のフォトレジストの微量な残渣50にUV光20を照射させたオゾンを接触させること。

請求項（抜粋）：

基板外周部のフォトレジストの残渣を除去する残渣除去装置において、基板外周部のフォトレジストビーズ除去後のフォトレジストの微量な残渣を、UV光を照射させたオゾンを接触させることにより除去することを特徴とする基板外周部の残渣除去装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/38 501

FI (3件)：

G03F 7/004 505 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/30 577

Fターム (15件)：

2H025AA00 ,  2H025AB13 ,  2H025AB17 ,  2H025CC11 ,  2H025EA05 ,  2H025FA47 ,  2H096AA28 ,  2H096BA20 ,  2H096CA14 ,  2H096DA10 ,  2H096JA02 ,  2H096LA01 ,  2H096LA06 ,  5F046MA13 ,  5F046MA17