特許

J-GLOBAL ID：200903075822882027

パターン形成装置及びパターン形成方法

発明者： 渡邉 喜夫 ,  天野 俊二
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-325583
公開番号（公開出願番号）：特開2003-133067
出願日： 2001年10月23日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
要約：

【要約】【課題】 高精細なパターンを精度良く連続的に形成可能であり、量産に好適である。【解決手段】 基体11上に所定のパターンで材料を被着させるパターン形成装置10であって、基体11を支持して連続走行させる基体搬送手段12と、上記基体走行手段12と同期して、長尺状のマスク13を連続走行させるマスク搬送手段14と、マス13クの開口部を通して、材料を上記基体11に被着させる薄膜形成手段19とを有する。

請求項（抜粋）：

基体上に所定のパターンで材料を被着させるパターン形成装置であって、基体を支持して連続走行させる基体搬送手段と、上記基体走行手段と同期して、長尺状のマスクを連続走行させるマスク搬送手段と、マスクの開口部を通して、材料を上記基体に被着させる薄膜形成手段とを有することを特徴とするパターン形成装置。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14

FI (4件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/04 A ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A

Fターム (10件)：

3K007AB18 ,  3K007BA07 ,  3K007CA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04