特許

J-GLOBAL ID：200903075842473328

真空プロセス装置

発明者： 中沢 政志
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 友松 英爾 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-097183
公開番号（公開出願番号）：特開平6-288350
出願日： 1993年03月31日
公開日（公表日）： 1994年10月11日
要約：

【要約】【目的】 本発明の目的は、大気圧状態の真空槽(チャンバー)を、排気中の気流の乱れによるダストの舞い上り等を生ぜさせず、かつ迅速に真空状態にすることのできる真空プロセス装置を提供することにある。【構成】 少なくとも(A)真空槽と(B)粗引き排気系からなる排気系とを有する真空プロセス装置において、粗引き排気系が、真空槽の圧力に応じてコンダクタンスを調節することができるものであることを特徴とする真空プロセス装置。

請求項（抜粋）：

少なくとも(A)真空槽と(B)粗引き排気系からなる排気系とを有する真空プロセス装置において、粗引き排気系が、真空槽の圧力に応じてコンダクタンスを調節することができるものであることを特徴とする真空プロセス装置。