特許

J-GLOBAL ID：200903075857694495

光触媒酸化チタン膜の製造方法

発明者： 伊藤 征司郎 ,  多田 弘明 ,  岩崎 光伸 ,  大中 隆 ,  萩野 清二
出願人/特許権者： 株式会社日本アルミ
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-295241
公開番号（公開出願番号）：特開2000-128535
出願日： 1998年10月16日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
要約：

【要約】【課題】 紫外線領域だけでなく可視光線領域においても高い光触媒活性を有する酸化チタン膜を提供すること。【解決手段】 2価のコバルトイオンを含む酸化チタンゾルを基板上にコーティングする工程と、該コーティング膜を400〜800°Cで焼成する工程と、を備え、コバルトのモル量を、チタンとコバルトの合計モル量に対して、0.00001〜10%としたことを特徴としている。

請求項（抜粋）：

光触媒活性を有する酸化チタン膜を製造する方法において、2価のコバルトイオンを含む酸化チタンゾルを基板上にコーティングする工程と、該コーティング膜を400〜800°Cで焼成する工程と、を備え、酸化チタンゾルにおけるコバルトのモル量を、チタンとコバルトの合計モル量に対して、0.00001〜10%としたことを特徴とする光触媒酸化チタン膜の製造方法。

IPC (4件)：

C01G 23/053 ,  B01J 35/02 ,  C01G 23/00 ,  C23C 18/12

FI (4件)：

C01G 23/053 ,  B01J 35/02 J ,  C01G 23/00 C ,  C23C 18/12

Fターム (16件)：

4G047CA05 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4K022AA03 ,  4K022BA06 ,  4K022BA15 ,  4K022BA22 ,  4K022BA33 ,  4K022DA06 ,  4K022DA08 ,  4K022DB01 ,  4K022DB04 ,  4K022DB07 ,  4K022DB08 ,  4K022EA01