特許
J-GLOBAL ID：200903075865293629
プラズマ処理容器の再生方法,プラズマ処理容器内部材,プラズマ処理容器内部材の製造方法,及びプラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
亀谷 美明
, 金本 哲男
, 萩原 康司
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001010715
公開番号（公開出願番号）：WO2002-048421
出願日： 2001年12月07日
公開日（公表日）： 2002年06月20日
要約：
基材の表面がアルミナ,希土類酸化物,ポリイミドまたはポリベンゾイミダゾールのうちのいずれかの溶射膜によって被覆されたプラズマ処理容器の内部の部材の,プラズマ中での使用により劣化した溶射膜に,前記溶射膜と同一の材料を再溶射する。これにより,プラズマ中での使用により表面が劣化したプラズマ処理容器を新品同様に再生することが可能となる。
請求項（抜粋）：
基材の表面がアルミナ,希土類酸化物,ポリイミドまたはポリベンゾイミダゾールのうちのいずれかの溶射膜によって被覆されたプラズマ処理容器の内部の部材の,プラズマ中での使用により劣化した溶射膜に,前記溶射膜と同一の材料を再溶射することを特徴とするプラズマ処理容器の再生方法。
IPC (6件)：
C23C4/04
, C23C4/02
, C23C4/10
, C23C6/00
, C23F4/00
, H01L21/3065
C23C4/04
, C23C4/02
, C23C4/10
, C23C6/00
, C23F4/00 A
, H01L21/302 101B
