特許

J-GLOBAL ID：200903075875907536

少なくとも一つの光学要素を洗浄する方法および装置

発明者： ツィンク,ペーター ,  パンケルト,ヨーゼフ ,  デッラ,ギュンター ,  ヴェーバー,アヒム
出願人/特許権者： コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ
代理人 (3件)： 伊東 忠彦 ,  大貫 進介 ,  伊東 忠重
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-530881
公開番号（公開出願番号）：特表2006-529057
出願日： 2004年05月18日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：

本発明は、真空容器中の、特に極端紫外線および/または軟X線を生成する少なくとも一つの光源を有する少なくとも一つの照射装置の少なくとも一つの光学要素を洗浄する方法に関するものである。光線は光学要素を通じて被加工物へと導かれる。光学要素は少なくとも部分的には光源によって導入される無機物質のために汚染される。前記方法において、支配的な反応条件に依存して、光線(118)に実質半透明または透明な少なくとも一つの反応相手(124)が供給システム(126)を通じて加えられる。反応相手は汚染付着物(128)と化学反応してそれを光学要素(110)から除去する。

請求項（抜粋）：

真空容器中の、特に極端紫外線および/または軟X線放射を生成する少なくとも一つの光源を有する少なくとも一つの照射装置の少なくとも一つの光学要素を洗浄する方法であって、前記光線が前記光学要素を通じて処理されるべき被加工物へと導かれ、前記光学要素は処理の間に少なくとも部分的には前記光源によって導入される無機物質のために汚染されるものであって、支配的な反応条件に依存して前記光線に実質半透明または透明な少なくとも一つの反応相手が供給装置を通じて導入され、汚染付着物を当該光学要素から除去するよう前記反応相手が汚染付着物と化学反応することを特徴とする方法。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 531A

Fターム (2件)：

5F046GA03 ,  5F046GB01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、およびそれらによって製造されたデバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-262809   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ, コニンクリユケフィリップスエレクトロニクスエヌ.ブイ.
• X線露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-295457   出願人：株式会社ニコン
• X線光源用デブリ除去装置及び、デブリ除去装置を用いた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-205319   出願人：キヤノン株式会社
• 特開平3-030315