特許

J-GLOBAL ID：200903075877866985

レジスト組成物

発明者： 尾家 正行 ,  阿部 信紀 ,  田中 秀行
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-097139
公開番号（公開出願番号）：特開平6-289608
出願日： 1993年03月30日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 感度、解像度、耐エッチング性、及び保存安定性などのレジスト特性に優れたレジスト材料を提供すること。【構成】 分子鎖中に、下記一般式(I)及び一般式(II)で示される構造単位を有する共重合体(A)、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物(B)を含有することを特徴とするレジスト組成物。(式中、R1は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基等、R2は、酸素原子に結合する3級の炭素原子を有する有機基である。)(式中、R3は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、R4及びR5は、互いに同一または異なり、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシル基、炭素数1〜5のアルキル基等、である。)

請求項（抜粋）：

分子鎖中に、下記一般式(I)及び一般式(II)で示される構造単位を有する共重合体(A)、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物(B)を含有することを特徴とするレジスト組成物。【化1】(式中、R1は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、ハロゲン原子、またはシアノ基であり、R2は、酸素原子に結合する3級の炭素原子を有する有機基である。)【化2】(式中、R3は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、ハロゲン原子、またはシアノ基であり、R4及びR5は、互いに同一または異なり、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシル基、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12の置換アルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数6〜12の置換アリール基、炭素数7〜14のアラルキル基、または炭素数7〜14の置換アラルキル基である。)

IPC (5件)：

G03F 7/023 501 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027