特許

J-GLOBAL ID：200903075886998460

鏡面研磨コーチング方法および鏡面研磨コーチング装置

発明者： 島田 邦雄 ,  呉 勇波 ,  山本 慶太 ,  花村 玲 ,  松尾 良夫
出願人/特許権者： FDK株式会社 ,  島田 邦雄 ,  呉 勇波
代理人 (1件)： 松井 伸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-278556
公開番号（公開出願番号）：特開2006-088283
出願日： 2004年09月24日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：

【課題】 金属部材の表面処理において、鏡面研磨が行えるとともに酸化膜のコーチングも同一作業により行える鏡面研磨コーチング方法を提供すること【解決手段】 研磨対象(試料1)を一方の鉄芯4の先端部に支持して研磨パッド2を他方の鉄芯5の先端部に支持し、試料1と研磨パッド2とを対面させた間に磁気研磨液3を存在させる。鉄心4,5にはコイル8,9を設けて電磁石とし、外側の他端に駆動モータ6,7を連結して回転させる。磁気研磨液3には増粘剤,非磁性の砥粒を混合しておき、駆動モータ6,7により互いを逆回転させ、コイル8,9により磁気研磨液3に所定に磁場を加える。磁気研磨液中では強磁性粒子(鉄粒子)に砥粒,マグネタイト粒子が付着し、当該付着粒体が自転して動くので研削作用し、研磨面に酸素が直ちに結合し、コーチングされる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

金属部材である研磨対象に対して鏡面研磨と酸化膜のコーチングとを同時に行うような鏡面研磨コーチング方法であって、 研磨対象に対して研磨工具を対面させてそれぞれに支持し、それら両支持部あるいは少なくとも一方の支持部に回転手段および磁場を発生する磁場発生源を設け、 前記研磨対象と前記研磨工具との間に磁気研磨液を存在させて当該磁気研磨液には増粘剤および非磁性の砥粒を混合しておき、 前記回転手段により互いに逆回転あるいは少なくとも一方を回転するとともに、前記磁場発生源により前記磁気研磨液に時間的に定常的あるいは変動的な磁場を加えることを特徴とする鏡面研磨コーチング方法。

IPC (3件)：

B24B 37/00 ,  C23C 22/05 ,  C23F 3/00

FI (4件)：

B24B37/00 D ,  B24B37/00 H ,  C23C22/05 ,  C23F3/00

Fターム (22件)：

3C058AA07 ,  3C058AA11 ,  3C058CB08 ,  3C058DA02 ,  3C058DA11 ,  4K026AA02 ,  4K026BA08 ,  4K026BB01 ,  4K026CA02 ,  4K026CA16 ,  4K026CA18 ,  4K026CA39 ,  4K026DA04 ,  4K026EA03 ,  4K057WA09 ,  4K057WB02 ,  4K057WD10 ,  4K057WE30 ,  4K057WF04 ,  4K057WM01 ,  4K057WM03 ,  4K057WN06

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 粒子分散型混合機能性流体及びそれを用いた加工法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-368307   出願人：秋田県