光ディスク用原盤の製造方法と製造装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松隈秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-036674
公開番号（公開出願番号）：特開平5-230683
出願日： 1992年02月24日
公開日（公表日）： 1993年09月07日
要約：

【要約】【目的】膜質のよいメッキ層を安定して形成することができるようにする。【構成】光ディスク用原盤を作製する電気メッキに際し、そのメッキ液の流量(曲線11)を通電量(曲線12)に応じて変化させる。

請求項（抜粋）：

パターン化された膜を設けた平滑基板上に、電気メッキにより金属層を形成した後、この金属層を剥離して光ディスク用原盤とする光ディスク用原盤の製造方法において、通電量に応じてメッキ液の流量を変化させて上記金属層の電気メッキを行うことを特徴とする光ディスク用原盤の製造方法。

IPC (2件)：

C25D 1/00 331 , G11B 7/26 501

引用特許：

審査官引用 (3件)

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