特許

J-GLOBAL ID：200903075904901933

純水製造装置

発明者： 大澤 公伸 ,  山田 聡
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-167967
公開番号（公開出願番号）：特開2005-000828
出願日： 2003年06月12日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

【課題】ホウ素濃度が低い処理水を効率良く製造することができる純水製造装置を提供する。【解決手段】被処理水はまずRO装置1に通水され、透過水がホウ素吸着装置2に通水され、このホウ素吸着装置2を通過してホウ素が吸着除去された水が電気脱イオン装置3に通水され、電気脱イオン処理された水が処理水として取り出される。電気脱イオン装置3の濃縮水は、廃棄されてもよく、返送配管4を介してRO装置1の上流側に戻し、被処理水に加えるようにしてもよい。ホウ素吸着装置2に収容される吸着剤としては、ホウ素を選択的に吸着するホウ素選択性吸着剤が好適である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

逆浸透膜装置、電気脱イオン装置及びホウ素吸着装置を有する純水製造装置において、 逆浸透膜装置からの脱塩水をホウ素吸着装置に通水し、次いで電気脱イオン装置に通水して純水を製造するように上記各装置を接続したことを特徴とする純水製造装置。

IPC (7件)：

C02F1/469 ,  B01D61/02 ,  B01D61/44 ,  B01D61/48 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F9/00

FI (11件)：

C02F1/46 103 ,  B01D61/02 500 ,  B01D61/44 500 ,  B01D61/48 ,  C02F1/42 A ,  C02F1/44 J ,  C02F9/00 502F ,  C02F9/00 502J ,  C02F9/00 502M ,  C02F9/00 503B ,  C02F9/00 504B

Fターム (42件)：

4D006GA03 ,  4D006GA17 ,  4D006JA30A ,  4D006JA71 ,  4D006KA71 ,  4D006KB01 ,  4D006KB11 ,  4D006MA03 ,  4D006MA13 ,  4D006MA14 ,  4D006MB02 ,  4D006MB07 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB70 ,  4D006PC02 ,  4D025AA04 ,  4D025AB05 ,  4D025BA08 ,  4D025BA13 ,  4D025BA17 ,  4D025BB02 ,  4D025BB04 ,  4D025DA05 ,  4D025DA06 ,  4D061DA02 ,  4D061DB13 ,  4D061DB18 ,  4D061DC13 ,  4D061DC18 ,  4D061EA09 ,  4D061EB04 ,  4D061EB13 ,  4D061EB19 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061FA08 ,  4D061FA09 ,  4D061GA07 ,  4D061GC02 ,  4D061GC12 ,  4D061GC14