特許

J-GLOBAL ID：200903075923339464

超音波洗浄装置および方法

発明者： 羽鳥 誠 ,  近藤 泰一 ,  古賀 和博 ,  米澤 志郎 ,  武島 豊 ,  青木 正 ,  斉藤 哲夫 ,  井久保 成大
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-112560
公開番号（公開出願番号）：特開平5-308067
出願日： 1992年05月01日
公開日（公表日）： 1993年11月19日
要約：

【要約】【目的】 洗浄効率の高い超音波洗浄装置を提供する。【構成】 洗浄槽3の側面に沿って複数個の超音波振動子4を配置し、超音波の減衰を防止すると共に、ウエハの表面全体に均一な超音波を照射することができるようにした超音波洗浄装置1である。また、洗浄槽3の底部から洗浄液2を供給し、洗浄槽3の上部でオーバーフローさせることにより、洗浄槽3内に洗浄液2の循環が滞るデッドスペースを無くし、ウエハ表面へのパーティクルの再付着を防止することができるようにした超音波洗浄装置1である。

請求項（抜粋）：

洗浄槽の側面に沿って複数個の超音波振動子を配置したことを特徴とする超音波洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/12