特許

J-GLOBAL ID：200903075923469473

研磨装置

発明者： 平岡 尚樹
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社
代理人 (1件)： 恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-323005
公開番号（公開出願番号）：特開平9-155727
出願日： 1995年12月12日
公開日（公表日）： 1997年06月17日
要約：

【要約】【課題】 硬めの研磨布を使用しても被研磨体を十分均一に研磨できるように定盤の研磨時の傾きを小さく抑える。【解決手段】 定盤5は回転軸5bと支持部材4との間に介装されたベアリング32〜34により支持部材4に対して回転可能に支持されている。テーブル部5aの裏面35はすべり軸受36を介して摺動面4bと摺動するようになっており、その摺動摩擦抵抗を抑える潤滑油が潤滑油供給管38からその摺動面に供給される。回転軸5bはスペーサ42及び板ばね43を介してアンギュラベアリング34の内周部側を押圧付勢するように締結されたナット44からその締結力の反力を受けて下方向に付勢されており、この付勢力により定盤5の回転時の浮き上がりが抑えられる。ウェハ等の被研磨体から回転軸心から離れた部位を押圧されても、定盤5はテーブル部5aの裏面35が摺動面34に規制されてほとんど傾かない。

請求項（抜粋）：

研磨布が上面に貼付されるテーブル部の裏面中央から垂直に突出した軸部にて基台に対して回転可能に支持された定盤を備えた研磨装置において、前記テーブル部はその裏面にて前記基台に対してすべり軸受を介して摺動可能に支持されている研磨装置。

IPC (2件)：

B24B 37/04 ,  H01L 21/304 321

FI (2件)：

B24B 37/04 A ,  H01L 21/304 321 E