特許
J-GLOBAL ID:200903075933295678

電磁撹拌装置及び電磁撹拌方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 興作
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-023074
公開番号(公開出願番号):特開2003-220323
出願日: 2002年01月31日
公開日(公表日): 2003年08月05日
要約:
【要約】【課題】 融体を非接触で、その全体に亘って均一かつ強力に撹拌することのできる、新規な電磁撹拌装置及び電磁撹拌方法を提供する。【解決手段】 円筒形の容器1の外周面において回転磁界発生コイルを設けるとともに、容器1の外周面において、軸方向に沿って軸方向移動磁界発生コイル3を設ける。Rコイル2によって、容器1内に容れられた融体に対して回転運動が生ぜしめられ、Lコイル3によって、前記融体に対して軸方向運動が生ぜしめられる。そして、前記回転運動と前記軸方向運動とが重畳されて、前記融体に対して強力な流速運動が生ぜしめられ、前記融体を強力かつ均一に撹拌することができる。
請求項(抜粋):
所定の容器と、前記容器の外周面に沿って設けられた回転磁界発生コイルと、前記容器の前記外周面において、前記容器の軸方向に沿って設けられた軸方向移動磁界発生コイルと、を具えることを特徴とする、電磁撹拌装置。
IPC (4件):
B01F 13/08 ,  B22D 11/115 ,  F27D 23/04 ,  C21C 7/10
FI (6件):
B01F 13/08 Z ,  B22D 11/115 A ,  B22D 11/115 D ,  B22D 11/115 E ,  F27D 23/04 ,  C21C 7/10 S
Fターム (7件):
4E004AA09 ,  4E004MB12 ,  4G036AC27 ,  4K013CC06 ,  4K056AA02 ,  4K056BA03 ,  4K056EA13
引用特許:
審査官引用 (2件)

前のページに戻る