特許

J-GLOBAL ID：200903075946809670

バイパスダストの塩素濃度調整装置及び方法

発明者： 上野 直樹 ,  笠原 勝
出願人/特許権者： 太平洋セメント株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-314576
公開番号（公開出願番号）：特開2000-146458
出願日： 1998年11月05日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：

【要約】【課題】 この発明は、キルン排ガスのバイパス装置及び方法においてキルン排ガスから回収されるバイパスダストの塩素濃度を調整することができるバイパスダストの塩素濃度調整装置及び方法を提供することを課題とする。【解決手段】 キルン11からプローブ13を介して抽気された排ガス中に含まれるダストはサイクロン14によって粗粉ダストとバイパスダストとに分級され、粗粉ダストはサイクロン14の下端部から回収されて粗粉ダスト後添加装置21に入り、バイパスダストを含む排ガスはサイクロン14から排出されて冷却器15へと送られる。粗粉ダストの一部は粗粉ダスト後添加装置21からバイパスダストを含む排ガス中に添加され、残りが再びキルン系内へ戻される。塩素濃度の高いバイパスダストに塩素濃度の低い粗粉ダストの一部を混合するため、集塵機16で回収されるダストの発生量及び塩素濃度の調整が可能となる。

請求項（抜粋）：

キルン排ガスのバイパス装置において、キルンから抽気された排ガスに含まれるダストをバイパスダストと粗粉ダストとに分級して粗粉ダストを回収する分級機と、前記分級機で回収された粗粉ダストの一部をバイパスダストに添加すると共に残りの粗粉ダストをキルン系内へ戻す粗粉ダスト後添加装置とを備えたことを特徴とするバイパスダストの塩素濃度調整装置。

IPC (4件)：

F27D 17/00 104 ,  B01D 53/68 ,  B04C 5/103 ,  C04B 7/60

FI (4件)：

F27D 17/00 104 G ,  B04C 5/103 ,  C04B 7/60 ,  B01D 53/34 134 A

Fターム (35件)：

4D002AA18 ,  4D002AC05 ,  4D002BA13 ,  4D002BA14 ,  4D002CA13 ,  4D002CA20 ,  4D002DA66 ,  4D002DA70 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB06 ,  4D002GB08 ,  4D002GB12 ,  4D053AA03 ,  4D053AB01 ,  4D053BA01 ,  4D053BB02 ,  4D053BC01 ,  4D053BD04 ,  4D053CA20 ,  4D053CB14 ,  4D053CC10 ,  4D053CC11 ,  4D053CF01 ,  4D053CG09 ,  4D053DA04 ,  4K056AA12 ,  4K056BA06 ,  4K056CA08 ,  4K056DB07 ,  4K056DB13 ,  4K056DB23 ,  4K056DB26