特許
J-GLOBAL ID：200903075950016685
CZ法における融液レベル制御装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-075527
公開番号（公開出願番号）：特開平5-238877
出願日： 1992年02月26日
公開日（公表日）： 1993年09月17日
要約：
【要約】【目的】 融液面の振動にかかわらず融液面位置を高精度で検出し、この検出結果に基づいて融液面を常に所定の位置に維持することができるような、CZ法における融液レベル制御装置を提供する。【構成】 レーザ光の正反射を用いて融液面3と受光面との距離を計測する位置検出部4と、融液面3の振動周期に同調して作動する光シャッタ5とを、引上シャフト6とともに昇降する炉外部分に設ける。制御部13が、前記位置検出部4による検出データと、あらかじめ設定した所定融液面位置データとの差を演算した上、引上シャフト昇降用サーボモータ9とるつぼ軸昇降用サーボモータ11とに指令信号を出力し、これらの駆動を制御することにより、融液面位置を常に所定の位置に維持する。
請求項（抜粋）：
CZ法を用いる単結晶製造装置において、シード軸の昇降に伴って昇降する炉外部分に設けられ、レーザ光の正反射を用いて融液面と受光面との距離を計測する位置検出部と、前記位置検出部と融液面との間に設けられ、任意の周期でレーザ光をシャッタリングする光シャッタと、あらかじめ設定した融液面位置と前記位置検出部が検出した融液面位置との差を演算し、この演算結果に基づいてシード軸およびるつぼ軸を昇降させるサーボモータにそれぞれ制御信号を出力する制御部とからなることを特徴とするCZ法における融液レベル制御装置。
引用特許：
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