特許
J-GLOBAL ID：200903075950899676
電界放出電子源及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-154509
公開番号（公開出願番号）：特開2000-348599
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 電子放出材料の微粒子からなる電界放出領域を画素に分割し、XYマトリクス駆動を可能にした電界放出電子源、及びこの様な電界放出電子源を用いた薄型画像形成装置を提供する。【解決手段】 電子放出領域と、電子を引き出すゲート電極と、ゲート絶縁層を有する電界放出電子源において、電子放出材料の微粒子を支持基板1に配設されたホール3、又は細孔内に充填させ、素子を形成する材料、構成に制限のない相違するカソード配線2とゲート電極配線6を直交させることを可能にする。電子放出材料の微粒子は、カーボンナノチューブ、ダイヤモンド、グラファイト等の炭素材料、或いはボロンナイトライド、シリコン、金、白金を用いる。
請求項（抜粋）：
電子放出材料の微粒子を含む電子放出領域と、前記電子放出領域から真空中に電子を引き出すゲート電極と、前記電子放出領域と前記ゲート電極を電気的に絶縁するゲート絶縁層とを有する電界放出電子源において、前記電子放出材料の微粒子が支持基板に配設されたホール内に充填されていることを特徴とする電界放出電子源。
IPC (3件)：
H01J 1/304
, H01J 9/02
, H01J 31/12
H01J 1/30 F
, H01J 9/02 B
, H01J 31/12 C
5C036EE03
, 5C036EF01
, 5C036EF06
, 5C036EF08
, 5C036EG02
, 5C036EG12
, 5C036EH01
, 5C036EH11
