特許
J-GLOBAL ID:200903075957747596

積層複合体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-330328
公開番号(公開出願番号):特開2006-139178
出願日: 2004年11月15日
公開日(公表日): 2006年06月01日
要約:
【課題】本発明は、目視では印刷画像を視認することができず、もしくは、印刷画像の存在に気付き難い上に、偏光板を重ねると、パターン状の潜像が見え、真偽判定が可能となり、偽造防止性を付与する積層複合体を提供する。特に、個別IDや写真、本人確認等の個別の情報を潜像にすることによって、偽造、変造、改ざんなどの不正行為が困難な積層複合体とその製造方法を提供する。【解決手段】基材上の少なくとも一部に光化学的に配向し得る配向層がパターン状に設けてあり、光配向された前記配向層を被覆するように高分子液晶層を設けてなることを特徴とする積層複合体及びその製造方法である。【選択図】図8
請求項(抜粋):
基材上の少なくとも一部に光化学的に配向し得る配向層がパターン状に設けてあり、光配向された前記配向層を被覆するように高分子液晶層を設けてなることを特徴とする積層複合体。
IPC (3件):
G02B 5/30 ,  B32B 7/02 ,  B42D 15/10
FI (4件):
G02B5/30 ,  B32B7/02 103 ,  B42D15/10 501P ,  B42D15/10 531B
Fターム (56件):
2C005HA02 ,  2C005HB01 ,  2C005HB10 ,  2C005HB20 ,  2C005JB12 ,  2C005JB14 ,  2C005KA01 ,  2C005KA40 ,  2H049BA02 ,  2H049BA42 ,  2H049BC05 ,  2H049BC08 ,  2H049BC22 ,  2H113AA06 ,  2H113BA01 ,  2H113BA03 ,  2H113BA09 ,  2H113BB22 ,  2H113BB32 ,  2H113CA37 ,  2H113CA39 ,  2H113CA46 ,  4F100AB01 ,  4F100AK01C ,  4F100AK42 ,  4F100AR00B ,  4F100AR00D ,  4F100AS00E ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA10E ,  4F100BA22 ,  4F100EH462 ,  4F100EH611 ,  4F100EH66 ,  4F100EJ081 ,  4F100EJ541 ,  4F100GB90 ,  4F100HB17B ,  4F100HB17D ,  4F100JA11C ,  4F100JA20B ,  4F100JA20D ,  4F100JL11E ,  4F100JL13E ,  4F100JM02 ,  4F100JN01A ,  4F100JN06A ,  4F100JN10 ,  4F100JN18B ,  4F100JN30B ,  4F100JN30D
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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