特許
J-GLOBAL ID：200903075962382415
光学素子成形用型及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-255022
公開番号（公開出願番号）：特開平8-119642
出願日： 1994年10月20日
公開日（公表日）： 1996年05月14日
要約：
【要約】【目的】 プレス成形を多数回行っても中間層の剥離やクラック、傷等の欠陥が生じない極めて耐久性の高い光学素子成形用型及びその製造方法を提供する。【構成】 ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる成形用型において、型母材と成形表面層の間に中間層を有し、型母材を構成する少なくとも1種類以上の元素の濃度が型母材側から中間層側に向かって減少しかつ中間層を構成する少なくとも1種類以上の元素の濃度が中間層側から型母材側に向かって減少しているミキシング層を有する光学素子成形用型及びその製造方法。
請求項（抜粋）：
ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる成形用型において、型母材と成形表面層の間に中間層を有し、型母材を構成する少なくとも1種類以上の元素の濃度が型母材側から中間層側に向かって減少しかつ中間層を構成する少なくとも1種類以上の元素の濃度が中間層側から型母材側に向かって減少しているミキシング層を有することを特徴とする光学素子成形用型。
引用特許：
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