投影露光方法、投影露光装置および照明光学装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-215698
公開番号（公開出願番号）：特開2002-033259
出願日： 2000年07月17日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：

【要約】【目的】光量計測センサーの配置位置に自由度を高めるとともに、正確な光量を計測する。【構成】多光束発生手段(フライアイレンズ)と光束調整手段(回折光学素子、プリズム)との間に光束分配手段(ビームスプリッタ)を配置し、光束分配手段からの光を光量計測センサーで計測し、レーザー光源から出てくるパルス光の光量を調整する。

請求項（抜粋）：

光源から光を射出してマスクのパターンを所定の露光量で照射し、感光基板に前記パターン像を転写する投影露光方法において、前記光源からの光の光束を、所定形状に調整し、前記所定形状に調整された前記光の光束を分配して、分配された一部の光束を光量計測手段に導き、残りの光束を多光束発生手段に導き、前記多光束発生手段で発生した光束を前記マスクに照射し、前記光量計測手段で計測した結果に基づき、前記光源からの光の光量を調整することを特徴とする投影露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G02B 19/00 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 521

FI (5件)：

G02B 19/00 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 C , H01L 21/30 527

Fターム (26件)：

2H052BA02 , 2H052BA03 , 2H052BA09 , 2H052BA12 , 2H097BB01 , 2H097CA06 , 2H097CA13 , 2H097EA01 , 2H097GB01 , 2H097GB02 , 2H097LA10 , 2H097LA12 , 2H097LA20 , 5F046BA03 , 5F046CA04 , 5F046CB01 , 5F046CB08 , 5F046CB10 , 5F046CB12 , 5F046CB13 , 5F046CB23 , 5F046DA01 , 5F046DA02 , 5F046DB01 , 5F046DB12 , 5F046DC02

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