特許

J-GLOBAL ID：200903075985431626

面内記録型磁気記録体の製造方法

発明者： 谷 典明 ,  中村 久三 ,  鈴木 郁生 ,  石川 道夫 ,  太田 賀文 ,  白 忠烈
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-169389
公開番号（公開出願番号）：特開平6-012666
出願日： 1992年06月26日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：

【要約】【目的】 ディスクの磁気異方性、モジュレーションの低い面内記録型磁気記録体を製造する方法。【構成】 スパッタ法で非磁性基板上に下地膜と、その下地膜上にエピタキシャル成長させたCo合金膜を形成する際、下地膜のターゲットに印加する電力、或いは下地膜ターゲットとCo合金ターゲットの両ターゲットに印加する電力を直流電力に高周波電力を重畳した電力で行う面内記録型磁気記録体の製造方法。

請求項（抜粋）：

スパッタ法で非磁性基板上に下地膜を形成し、次いで該下地膜上にCo合金膜を形成し、該Co合金膜をエピタキシャル成長させて成る面内記録型磁気記録体の製造方法において、下地膜を形成する際、下地膜ターゲットに直流電力と高周波電力を重畳して印加してスパッタ成膜することを特徴とする面内記録型磁気記録体の製造方法。