特許

J-GLOBAL ID：200903075985721454

透過率変調型フォトマスクおよびそれを用いる光学部品の製造方法

発明者： 渡辺 陸司 ,  中務 茂樹
出願人/特許権者： 株式会社クラレ
代理人 (1件)： 杉本 修司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-089609
公開番号（公開出願番号）：特開平5-257261
出願日： 1992年03月11日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：

【要約】【目的】 1回の露光によって二軸方向の凹凸パターンをもつ光学部品を作製できる透過率変調型フォトマスク、およびこのフォトマスクを用いた光学部品の製造方法を提供する。【構成】 開口部6と遮光部7が第1および第2の方向A,Bに沿って所定間隔a,bで交互に配置されており、第1の方向Aに沿って並んだ開口部6A,6Aの間に位置する遮光部7Aは、第1の方向Aにおける幅W1が、回折格子(光学部品)1の凹凸16の所定形状に対応して第2の方向Bに沿って変化している。このフォトマスク5を使用すれば、1回の露光で2つの方向A,Bに凹凸パターンをもつ2次元回折格子1を作製できる。

請求項（抜粋）：

開口部と遮光部の組合せによって露光用の光線の透過率を変化させる透過率変調型フォトマスクであって、開口部と遮光部が第1および第2の方向に沿って所定間隔で交互に配置されており、上記第1の方向に沿って並んだ開口部の間に位置する遮光部は、第1の方向における幅が、光学部品表面に露光によって形成されるべき凹凸の所定形状に対応して、第2の方向に沿って変化している透過率変調型フォトマスク

IPC (3件)：

G03F 1/00 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭50-021671
  
• 特開昭63-271265