特許

J-GLOBAL ID：200903075988527993

マイクロレンズの製造方法、マスク、マイクロレンズ、空間光変調装置及びプロジェクタ

発明者： 上島 俊司
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-290805
公開番号（公開出願番号）：特開2007-101834
出願日： 2005年10月04日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：

【課題】所望のレンズ形状とは異なる形状のマイクロレンズが形成される事態を低減でき、良好な光学特性を備えたマイクロレンズを製造することを可能とするマイクロレンズの製造方法等を提供すること。【解決手段】基板101上にマスク層102を形成するマスク層形成工程と、マスク層102のうち、基板101上の第1の領域に対応する部分にマスク開口部105を形成するマスク開口部形成工程と、第1の領域に包含され、かつ第1の領域より小さい第2の領域を開口領域とする凹部113を形成する凹部形成工程と、マスク開口部105を介して、凹部113が形成された基板101にエッチングを施すことにより、レンズ形状114を形成するレンズ形状形成工程と、を含む。【選択図】図1-3

請求項（抜粋）：

基板上にマスク層を形成するマスク層形成工程と、 前記マスク層のうち、前記基板上の第1の領域に対応する部分にマスク開口部を形成す るマスク開口部形成工程と、 前記第1の領域に包含され、かつ前記第1の領域より小さい第2の領域を開口領域とす る凹部を形成する凹部形成工程と、 前記マスク開口部を介して、前記凹部が形成された前記基板にエッチングを施すことに より、レンズ形状を形成するレンズ形状形成工程と、を含むことを特徴とするマイクロレ ンズの製造方法。

IPC (3件)：

G02B 3/00 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133

FI (3件)：

G02B3/00 A ,  G02F1/13 505 ,  G02F1/1335

Fターム (16件)：

2H088EA14 ,  2H088EA15 ,  2H088EA18 ,  2H088HA13 ,  2H088HA25 ,  2H088HA28 ,  2H088MA20 ,  2H091FA05X ,  2H091FA29Z ,  2H091FA41Z ,  2H091FB07 ,  2H091FC26 ,  2H091FD12 ,  2H091FD13 ,  2H091LA30 ,  2H091MA07

引用特許：

出願人引用 (1件)

• マイクロレンズ用基板の製造方法、マイクロレンズ用基板、マイクロレンズ基板、電気光学装置、液晶パネル用対向基板、液晶パネル、および投射型表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-192382   出願人：セイコーエプソン株式会社