特許
J-GLOBAL ID：200903075988550995
マスクの撓み補正機構付き露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
天野 広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-227267
公開番号（公開出願番号）：特開2004-069902
出願日： 2002年08月05日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】ガラスマスクの撓みの方向に関わらず、ガラスマスクの撓みを効率的に補正することができる機能を有する露光装置を提供する。【解決手段】ガラスマスク1に接して気密空間73を形成し、ガラスマスク1がA方向に撓んでいる場合には、高圧空気源74から高圧空気を気密空間73内に導入し、ガラスマスク1がB方向に撓んでいる場合には、真空ポンプ75を作動させ、気密空間73の内圧を低下させる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
所定のパターンが形成されているガラスマスクと、
前記ガラスマスクを介して、前記ガラスマスクと平行に配置されている基板にレーザ光を照射するレーザ光出射部と、
前記基板から反射してきたレーザ光を受光するレーザ光受光部と、
を備える露光装置において、
前記レーザ光出射部と前記ガラスマスクとの間に配置された透過ガラスと、
前記透過ガラスと前記ガラスマスクとを、鉛直方向において相互に平行に隔置した状態で、かつ、前記透過ガラスと前記ガラスマスクとの間に気密空間が形成されるように、保持するマスクホルダーと、
前記気密空間内に高圧ガスを供給する高圧ガス源と、
前記気密空間内部の圧力を低下させる真空ポンプと、
前記ガラスマスクの反りの方向に応じて、前記気密空間内に前記高圧ガスを供給し、あるいは、前記真空ポンプを作動させる制御装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/20 501
, H01L21/30 511
2H097BA02
, 2H097LA11
, 2H097LA12
, 5F046BA02
, 5F046CB17
, 5F046CC02
, 5F046DA06
, 5F046DA17
, 5F046DA27
, 5F046DB03
, 5F046DC04
