特許

J-GLOBAL ID：200903075991336813

CVD装置

発明者： 小林 司
出願人/特許権者： 日電アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-153427
公開番号（公開出願番号）：特開平5-117864
出願日： 1991年06月25日
公開日（公表日）： 1993年05月14日
要約：

【要約】【目的】 固体原料を利用するCVD装置において、長期にわたり昇華されたガスの供給量が安定して一定に保持され、収容容器内の固体原料の分解が非常に少ない固体原料ガス供給系を備える。【構成】 粉状又は粒状の流動性を有する固体原料を収容する第1の容器と、この第1の容器の固体原料を昇華させることにより反応室に原料ガスを供給するガス供給系を備えたCVD装置であり、固体原料を保管し、第1の容器に固体原料を補充する第2の容器を設けた。また、第1の容器を所定温度に保持する第1の恒温槽と、第2の容器を所定温度に保持する第2の恒温槽を設け、それぞれを、異なる温度に設定した。更に、第1の容器に固体原料を撹拌するための低周波発振器を付設した。

請求項（抜粋）：

流動性を有する固体原料を収容する第1の容器と、この第1の容器内の前記固体原料を昇華させることにより反応室に原料ガスを供給するガス供給系を備えたCVD装置において、前記固体原料を保管し、前記第1の容器に前記固体原料を補充する第2の容器を設けたことを特徴とするCVD装置。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/285 301