特許

J-GLOBAL ID：200903076013406040

成膜方法及び成膜装置

発明者： 但野 文夫 ,  小野 五千郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-314219
公開番号（公開出願番号）：特開2000-140745
出願日： 1998年11月05日
公開日（公表日）： 2000年05月23日
要約：

【要約】【課題】 耐衝撃性を得られる程度の膜厚で、かつ膜の表面の平滑性に優れた厚膜および着色された厚膜の形成方法と、このような厚膜を成膜する装置。【解決手段】 塗膜が成膜される下地12の表面12aに塗膜となる塗布液を噴霧し、表面に塗布液を付着させる付着工程と、表面の略中心を軸として上記下地を軸回転させて、表面に塗布膜からなる塗膜を形成する成膜工程とを含む。

請求項（抜粋）：

塗膜が成膜される下地の表面に前記塗膜となる塗布液を噴霧し、前記表面に前記塗布液を付着させる付着工程と、前記表面の略中心を軸として前記下地を軸回転させて、前記表面に前記塗布液からなる塗膜を形成する成膜工程とを含むことを特徴とする成膜方法。

IPC (4件)：

B05D 1/40 ,  B05B 15/00 ,  B05C 11/08 ,  B05D 5/00

FI (4件)：

B05D 1/40 A ,  B05B 15/00 ,  B05C 11/08 ,  B05D 5/00 C

Fターム (30件)：

4D073AA01 ,  4D073BB03 ,  4D073CB21 ,  4D073DB24 ,  4D073DB26 ,  4D075AA02 ,  4D075AA54 ,  4D075AA63 ,  4D075AA76 ,  4D075AA82 ,  4D075AA84 ,  4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075AC92 ,  4D075CA02 ,  4D075CA04 ,  4D075CB02 ,  4D075DA19 ,  4D075DB31 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EB32 ,  4D075EB43 ,  4D075EC02 ,  4D075EC11 ,  4F042AA10 ,  4F042AA28 ,  4F042DF09 ,  4F042DF32 ,  4F042EB09