特許

J-GLOBAL ID：200903076032623508

抗菌処理装置

発明者： 大江 宏和
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (3件)： 佐野 静夫 ,  山田 茂樹 ,  小寺 淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-327310
公開番号（公開出願番号）：特開2005-087936
出願日： 2003年09月19日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：

【課題】 貯留水の抗菌処理を行う装置において、貯留水の量や用途に応じて金属イオンの溶出量を調節できるようにする。【解決手段】 電圧を印加することにより金属イオンを溶出する金属電極42を備えたイオン溶出ユニット4と、金属イオンの溶出量を設定する設定部と、金属電極42への電圧印加を制御する制御部とを備える。ここで、溶出した金属イオンを貯留水中に効率的に分散させる観点から、装置内部に流水路Rを設け、吸込口52から吸い込まれた貯留水が流水路Rを通って排出口22から放出されるようにするのが好ましい。さらには、金属電極42の交換や清掃などの観点から、イオン溶出ユニット4をこの流水路R中に着脱可能に取り付けるのが好ましい。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

貯留水の抗菌処理に用いる装置であって、 電圧を印加することにより金属イオンを溶出する金属電極を備えた金属イオン溶出部と、 金属イオンの溶出量を設定する設定部と、 前記金属電極への電圧印加を制御する制御部と を備えたことを特徴とする抗菌処理装置。

IPC (1件)：

C02F1/46

FI (1件)：

C02F1/46 Z

Fターム (21件)：

4D061DA01 ,  4D061DA07 ,  4D061DB01 ,  4D061DB09 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB05 ,  4D061EB14 ,  4D061EB19 ,  4D061EB31 ,  4D061EB37 ,  4D061EB38 ,  4D061EB39 ,  4D061EB40 ,  4D061GA12 ,  4D061GA15 ,  4D061GB11 ,  4D061GB30 ,  4D061GC01 ,  4D061GC11 ,  4D061GC15

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 実開昭63-73198号公報(実用新案登録請求の範囲、第1図)
  
• 実公昭33-7358号公報(実用新案登録請求の範囲、第1図、第3図)
  

審査官引用 (1件)

• 風呂水浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-115331   出願人：三洋電機株式会社